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• 고밀도 플라스마 화학 증착, 高密度-化學蒸着, High Density Plasma Chemical Vapor Deposition, HDP CVD

  제조 공정의 웨이퍼 증착 과정에서 단위 면적당 1,012개 이상의 고밀도 플라스마 소스를 사용하여 각종 반도체 증착막의 균일도 및 신뢰성을 획기적으로 향상시킨 첨단 CVD 장비. 다른 장비는 플라스마를 한 방향으로 발산시키는 데 반해서 플라스마를 수직 및 수평 양방향으로 조절 가능토록 함으로써 웨이퍼...